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產(chǎn)品名稱: 單體連續(xù)磁控濺射鍍膜設(shè)備
發(fā)布日期: 2022-08-26
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二維碼:
簡述: BK-VSD-1800 型真空鍍膜設(shè)備,是一款根據(jù)客戶需求設(shè)計的單體連續(xù)磁控濺射鍍膜設(shè)備。主要適應(yīng) PET、PC、玻璃等 基材制備 SiO2、NbOx、Si3N4、 Cr 、In、AL等膜層的鍍膜設(shè)備。該設(shè)備結(jié)合機械、電氣、控制、真空、加熱、傳動、離子清洗、蒸發(fā)、磁控濺射、材料、化工等技術(shù)發(fā)展出來的高科技設(shè)備,適應(yīng)于現(xiàn)代工業(yè)鍍膜產(chǎn)業(yè)的要求,設(shè)備制備的膜層附著力強,膜層致密、均勻性好、成膜穩(wěn)定、效率高、智能化、故障率低、易維護等特點。
一、 工藝概述
BK-VSD-1800 型真空鍍膜設(shè)備,是一款根據(jù)客戶需求設(shè)計的單體連續(xù)磁控濺射鍍膜設(shè)備。主要適應(yīng) PET、PC、玻璃等 基材制備 SiO2、NbOx、Si3N4、 Cr 、In、AL等膜層的鍍膜設(shè)備。該設(shè)備結(jié)合機械、電氣、控制、真空、加熱、傳動、離子清洗、蒸發(fā)、磁控濺射、材料、化工等技術(shù)發(fā)展出來的高科技設(shè)備,適應(yīng)于現(xiàn)代工業(yè)鍍膜產(chǎn)業(yè)的要求,設(shè)備制備的膜層附著力強,膜層致密、均勻性好、成膜穩(wěn)定、效率高、智能化、故障率低、易維護等特點。
設(shè)備主要由真空腔體、工件傳動機構(gòu)、低真空泵組、高真空泵組、離子源、磁控濺射系統(tǒng)、儀器儀表及自動化控制系統(tǒng)組成。
二、 技術(shù)指標(biāo)
項目 |
技術(shù)指標(biāo) |
有效鍍膜尺寸 |
Φ1800×1300mm(以實際設(shè)計為準(zhǔn)) |
工件轉(zhuǎn)速 |
公轉(zhuǎn)1~100r/min無極可調(diào); |
極限真空 |
5×10-4Pa(空載潔凈) |
抽氣速率 |
大氣到 5×10-3Pa≤25min(所有腔體破真空后重新關(guān)門抽氣開始計算時間,空載潔凈。) |
檢漏漏率 |
≤5x10-10Pa·m3/sec |
加熱溫度 |
基板溫度≤150℃ |
靶材長度 |
1700mm |
有效濺射長度 |
約1300 mm |
三、 設(shè)備結(jié)構(gòu)
1.腔體結(jié)構(gòu)
1.1真空腔體
a) 材質(zhì):真空腔體采用SUS304不銹鋼材質(zhì)
b) 腔室分為2個腔室;
c) 進片抽氣室——工藝腔室;
d) 真空室底部有私服工裝驅(qū)動。
e) 頂部有粗抽閥門。
f) 防污格柵和內(nèi)壁是卡扣結(jié)構(gòu)方便拆卸。(并備一套備用)
g) 靶位設(shè)置檢修門,便于保養(yǎng)和維修;
h) 靶位周圍配有觀察窗,便于觀察腔內(nèi)工作狀況;
i) 腔體外表面噴塑,內(nèi)表面拋光處理。
1.2鍍膜
a) 四對靶使用2個20KW中頻控制;
b) 離子源系統(tǒng)一套;
c) 蒸發(fā)系統(tǒng)兩套。
d) 完成離子清洗,NbOx、SiO2、Si3N4的濺射鍍膜。
e) CCR離子源 LS1300 一套
1.3真空室防塵板
a) 采用SUS304不銹鋼材質(zhì),厚度1.2mm,表面噴砂處理,此厚板不容易變形,且重量適中。
b) 全封閉式擋塵板,有效防護真空室內(nèi)壁污染。
c) 擋塵板采用彈簧插針式固定,方便快捷。
2.低真空排氣系統(tǒng)
2.1機械泵 1臺
a) 廠家及型號: SV630B萊寶
b) 排氣速度:630 M3/h
c) 冷卻方式:水冷
2.2羅茨泵 1臺
a) 廠家及型號:WH7000萊寶
b) 排氣速度:7000M3/h
c) 控制方式:變頻器調(diào)速控制真空度
2.2機械泵 1臺
a) 廠家及型號: SV300B萊寶
b) 排氣速度:300 M3/h
2.2羅茨泵 1臺
a) 廠家及型號:WAU501
b) 排氣速度:500M3/h
2.3粗抽閥
a) 廠家及型號:HANA LV-08 1臺
b) 材質(zhì):SUS304不銹鋼
c) 運行方式:氣動
d) 表面處理方式:噴砂
2.4粗抽管道 1套
a) 規(guī)格:DN200
b) 管道材質(zhì):SUS304不銹鋼
c) 接口法蘭材質(zhì):SUS304不銹鋼
3. 高真空排氣系統(tǒng)
3.1分子泵 6臺
a) 型號:TMP-V3304LM島津
b) 排氣速度:3200 L/S
3.2擴散泵 1臺
c) 型號:DP-28
d) 排氣速度:26000 L/S
3.3翻板閥 1臺
a) 型號:1500D
b) 材質(zhì):SUS304不銹鋼
c) 運行方式:氣動
d) 表面處理方式:噴砂
4.超低溫系統(tǒng)
4.1超級冷凍機 1臺
a) 廠家及型號:天寒 TH-135-32Ax
b) 極限溫度:-135℃
c) 功率:12Kw
5.工藝氣體進入系統(tǒng)
5.1 MFC Ar 15套
a) 廠家:國產(chǎn)
b) 規(guī)格:Ar 1000Sccm
5.2 MFC AR 6套
a) 廠家:國產(chǎn)
b) 規(guī)格:AR 200Sccm
5.3 MFC O2 6套
a) 廠家:國產(chǎn)
b) 規(guī)格: O2 500Sccm
6.電氣系統(tǒng)
6.1 濺射電源 2套
a) 廠家:國產(chǎn)
b) 型號:20KW(MF)
c) 參數(shù): 20KW,
6.2 射頻電源 1套
a) 廠家:霍廷格
b) 型號:RF3006
c) 參數(shù): 6KW,
6.3工裝驅(qū)動馬達(dá) 4臺
a) 廠家: 松下
6.4 CCR離子源 1套
d) 廠家:德國
e) 型號:LS1300
f) 參數(shù): 6KW,
7.真空監(jiān)測系統(tǒng)
7.1低真空測量規(guī) 6組
a) 廠家:英富康
b) 規(guī)格:PSG500
c) 測量范圍:5.0x102 - 1.0X10-3Torr
7.2半量程測量規(guī) 2組
a) 廠家:英富康
b) 規(guī)格:IKR251
c) 測量范圍:.1.0x10-3 - 3.8X10-9Torr
8離子源
a) 離子源結(jié)構(gòu):線性離子源 1套
b) 工藝電源:國產(chǎn)離子源電源 1臺
9旋轉(zhuǎn)陰極
a)SiO2 磁控濺射 2對
b)NbOx/Si3N4 磁控濺射 2對
1、每對旋轉(zhuǎn)陰極單獨一組流量計和布?xì)夤艿肋M行供氣;
2、每對旋轉(zhuǎn)陰極單獨一臺電源控制
3、靶水循環(huán)、吹水控制系統(tǒng),配有水流、水溫傳感器,冷卻水異常時報警及保護;
10 AF蒸發(fā)
自動添料AF蒸發(fā)(4-6組蒸發(fā)點)
11 工件移栽系統(tǒng)
12控制系統(tǒng)
控制模式:自動模式、手動模式、維修模式;
自動模式:自動抽氣、執(zhí)行工藝、停機保壓、放氣開腔; 提供工藝配方設(shè)置與存儲;
具有水壓、水流、氣壓不足、閥門未到位、設(shè)備過載、誤操作、停電等保護及互鎖功能;
真空計、流量計、變頻器、離子源、濺射電源等通過人機界面來集成控制,提高設(shè)備自動化程度,減少設(shè)備帶來的干擾及降低人為失誤造成的損失;
報警信息、實時趨勢及時反饋和記錄; 歷史參數(shù)能夠?qū)С?,方便分析和歸檔; 用戶和權(quán)限管理保障運行的可靠和安全。
控制單元:三菱PLC
l 人機界面:彩色液晶觸摸屏
l 可視化界面
l 參數(shù)直觀顯示
l 在線顯示機器狀態(tài)和過程值
l 顯示歷史數(shù)據(jù),趨勢圖
l 菜單操作:
整套工藝參數(shù)和適當(dāng)?shù)南拗浦悼梢詢Υ嬖谙到y(tǒng)中,在需要是可以輸入編號調(diào)出。避免各個參數(shù)變化。
l 生產(chǎn)和質(zhì)量監(jiān)控:
記錄所以相關(guān)的生產(chǎn)和工藝參數(shù)。
存儲在設(shè)備中的數(shù)據(jù)存儲通過串行接口傳輸?shù)狡渌娔X用于長期儲存和評估。
l 維護和診斷功能:
預(yù)防性維護喲運行時泵的監(jiān)控及下列活動支持:
2 報警和錯誤報告系統(tǒng)
2 通過網(wǎng)絡(luò)通訊進行遠(yuǎn)程系統(tǒng)診斷
上一個:NVT-1600A
下一個:沒資料
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